2016-2022年中国光刻胶市场供需预测及战略咨询报告

我国光刻胶及配套化学品的研究始于20世纪70年代，但目前我国在该行业与国际先进水平相比有较大差距，造成差距主要原因系：一方面，高端光刻胶树脂合成及光敏剂合成技术与国际水平相比还有一定距离；另一方面，高端光刻胶的研究需要匹配昂贵的曝光机和检测设备，远远超出一般科研单位所能承受的范围。此外由于光刻胶与电子工业有特殊的关系，而电子产品又与军事有密切的关系，从而导致在先进领域很难和国外进行交流，进一步影响光刻胶研究与开发工作。目前，国内高端光刻胶产品尚需依赖进口。

PCB光刻胶企业	企业分析
日本TOK（TOKYOOHKAKOGYOCO.,LTD.）	日本TOK成立于1940年10月，总资产约753亿日元，主要生产和销售半导体光刻工艺用高纯度光致抗蚀剂，半导体液晶显示处理设备以及无机和有机化学品。
美国罗门哈斯（RohmandHaasCompany）	韩国东进化学成立于1967年，1983年起进入半导体材料领域，其主要产品包括光刻胶、研磨剂、蚀刻剂、LED用有机硅浸渍料等。
台湾永光化学工业股份有限公司	台湾永光化学工业股份有限公司成立于1972年，主要从事高科技化学工业之生产、研发及内外销，其主要产品包括特用化学、电子化学、医药化学及纳米材 料等，应用于半导体制造、液晶显示器制造、LED、TP触控等领域。
北京科华微电子材料有限公司	北京科华微电子材料有限公司成立于2004年，是一家中美合资企业，主要产品为紫外负性、正性光刻胶及相关配套化学品，产品应用领域涉及半导体分立器 件、集成电路、发光二极管等。
苏州瑞红电子化学品有限公司	苏州瑞红电子化学品有限公司成立于1994年，是一家中日合资企业，公司总部位于苏州，主要产品为紫外负性、正性光刻胶及相关配套化学品，产品应用领域涉及半导体分立器件、平板显示、发光二极管等。